半导体行业产生的工业废气该怎么处理？

半导体行业是一个高度精密和技术密集的行业，其生产过程中会产生大量的工业废气，包括氧化物、氯化物、氟化物、氮氧化物、有机物等。这些废气如果直接排放到大气中，将会对环境和人类健康造成严重的危害。因此，半导体行业必须采取有效的措施去进行工业废气处理工作。

下面是一些常见的半导体行业工业废气处理方法：

1、活性炭吸附法

活性炭吸附法主要原理就是利用多孔固体吸附剂（活性碳、硅胶、分子筛等）来处理有机废气，这样就能够通过化学键力或者是分子引力充分吸附有害成分，并且将其吸附在吸附剂的表面，从而达到净化有机废气的目的。活性炭吸附法目前主要应用于大风量、低浓度（≤800mg/m3）、无颗粒物、无粘性物、常温的低浓度有机废气净化处理。　

活性炭净化率高（活性炭吸附可达到90%以上），实用遍及，操纵简单，投资低。在吸附饱和以后需要更换新的活性炭，更换活性炭需要费用，替换下来的饱和以后的活性炭也是需要找专业危废公司进行危废处理，运营费用高。

活性炭吸附催化燃烧设备

2、燃烧法

燃烧法只在挥发性有机物在高温及空气充足的条件下进行完全燃烧，分解为CO2和H2O。燃烧法适用于各类有机废气，可以分为直接燃烧、热力燃烧和催化燃烧。

排放浓度大于5000mg/m³ 的高浓度废气一般采用直接燃烧法，该方法将VOCs废气作为燃料进行燃烧，燃烧温度一般控制在1100℃，处理效率高，可以达到95％一99％。

当然，半导体行业的工业废气处理方法还需要根据实际情况选择合适的，同时需要遵守当地的环保法规和标准。